带基板NiTi薄膜的应力状态及微观组织

来源 :第四届中国功能材料及其应用学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Hotcoolman
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研究了带基板磁控溅射富钛NiTi薄膜经不同温度晶化后的的微观组织和结构、相变温度及薄膜的应力状态.结果发现:带基板晶态薄膜中存在拉伸残余应力,且随晶化温度降低而增高,这是由于加热和冷却过程中的热应力、晶化和保温过程中的晶化应力和应力松弛效应以及冷却时形成马氏体的相变应力等的综合结果.在较低温度晶化的薄膜中呈现明显的放射状花样组织,这与在压应力场下晶化择优成长有关.
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