【摘 要】
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大马士哥艺铜互连线工艺已经广泛的应用于超大规模集成电路铜互联线的制造过程。而为填充高深径比、直径在0.1微米左右的道沟，需要镀铜在微孔底部的沉积速率大于口部的沉积速率，即超级电化学沉积。本文以乙醛酸为还原剂，PEG为抑制剂，SPS为加速剂，研究了PEG和SPS对超级化学镀铜微孔的填充行为。
【机 构】
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应用表面与胶体化学教育部重点实验室,陕西师范大学化学与材料科学学院,陕西 西安 710062
【出 处】
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2009年全国电子电镀及表面处理学术交流会
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大马士哥艺铜互连线工艺已经广泛的应用于超大规模集成电路铜互联线的制造过程。而为填充高深径比、直径在0.1微米左右的道沟，需要镀铜在微孔底部的沉积速率大于口部的沉积速率，即超级电化学沉积。本文以乙醛酸为还原剂，PEG为抑制剂，SPS为加速剂，研究了PEG和SPS对超级化学镀铜微孔的填充行为。
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