【摘 要】
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应用离子束辅助沉积技术(IBAD)在Fe-Cr-Mo合金基体上制备了TiN纳米薄膜.在模拟口腔环境溶液中,对在表面沉积TiN纳米薄膜处理的齿科用铁铬钼合金的自然腐蚀电位、腐蚀电流密度
【机 构】
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海军工程大学基础部(武汉)中国人民解放军第161医院(武汉)西安交通大学(西安)
【出 处】
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全国腐蚀电化学及测试方法专业委员会2002年学术交流会
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应用离子束辅助沉积技术(IBAD)在Fe-Cr-Mo合金基体上制备了TiN纳米薄膜.在模拟口腔环境溶液中,对在表面沉积TiN纳米薄膜处理的齿科用铁铬钼合金的自然腐蚀电位、腐蚀电流密度、极化电阻、极化曲线进行测定,并以末做表面镀膜的铁铬钼合金为对照.结果表明:经TiN薄膜处理的铁铬钼软磁合金在口腔环境中的耐腐蚀性较末经表面镀膜处理的铁铬钼合金明显提高,且以膜厚为2微米的TiN膜耐腐蚀性最好.
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