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采用离子辅助/中频磁控反应溅射工艺进行氧化硅、氮化硅、氧化铌薄膜材料的沉积实验,探讨溅射工作条件和工艺参数对于膜层材料的加工效率、反应充分性的影响.
3C玻璃磁控溅射多层光学薄膜的研究
【摘 要】
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采用离子辅助/中频磁控反应溅射工艺进行氧化硅、氮化硅、氧化铌薄膜材料的沉积实验,探讨溅射工作条件和工艺参数对于膜层材料的加工效率、反应充分性的影响.
【机 构】
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东莞汇成真空科技有限公司
【出 处】
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珠三角光电产业与真空科技创新论坛暨2016年广东省真空学会学术年会
【发表日期】
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2016年12期
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