【摘 要】
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现阶段，关于基体不同对微弧氧化膜致密性的影响，尤其是稀土镁合金，研究较少。本工作采用致密化微弧氧化技术在Mg-Gd-Y、ZM6和AZ91D三种镁合金表面制备微弧氧化膜，通过EIS手段
【机 构】
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中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室，沈阳 110016
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现阶段，关于基体不同对微弧氧化膜致密性的影响，尤其是稀土镁合金，研究较少。本工作采用致密化微弧氧化技术在Mg-Gd-Y、ZM6和AZ91D三种镁合金表面制备微弧氧化膜，通过EIS手段比较研究了三种镁合金表面微弧氧化膜致密度的不同。结果表明，三种镁合金表面氧化膜的致密性依次为：Mg-Gd-Y>AZ91D>ZM6，可见，基体对微弧氧化膜具有重要的影响。分析认为，该影响主要由合金内Mg含量的差异所导致，Mg含量越高，膜层越疏松。
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