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文中列示了射线检测底片暗室处理常见缺陷，分析了产生缺陷的原因，通过对暗室处理过程中各个环节的控制，减少了射线底片的缺陷，提高射线底片质量，确保射线检测的一次成功率。
暗室处理常见缺陷的产生及其预防
【摘 要】
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文中列示了射线检测底片暗室处理常见缺陷，分析了产生缺陷的原因，通过对暗室处理过程中各个环节的控制，减少了射线底片的缺陷，提高射线底片质量，确保射线检测的一次成功率。
【机 构】
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山东电力建设第二工程公司，济南 250100
【出 处】
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第十一届电站焊接学术讨论会
【发表日期】
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2010年期
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