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本文主要分析了经过热氧化后的硅单晶抛光片出现的位错、层错等二次缺陷的形成原因,以及二次缺陷对晶体管生产工艺中管芯成品率的影响,并通过实验探讨了消除此缺陷的方法。
硅片加工二次缺陷的产生与影响
【摘 要】
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本文主要分析了经过热氧化后的硅单晶抛光片出现的位错、层错等二次缺陷的形成原因,以及二次缺陷对晶体管生产工艺中管芯成品率的影响,并通过实验探讨了消除此缺陷的方法。
【机 构】
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河南新乡华丹电子有限责任公司
【出 处】
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2001年晋冀鲁豫鄂蒙川沪云贵十省市区机械工程学会河南分会学术年会
【发表日期】
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2001年6期
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