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本文致力于集中探讨脉冲偏压电弧离子镀技术各种表观行为下的深层本质和作用机制，并在此基础上论述其发展走向和取得新进展的可能性。
脉冲偏压电弧离子镀的发展现状及前瞻
【摘 要】
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本文致力于集中探讨脉冲偏压电弧离子镀技术各种表观行为下的深层本质和作用机制，并在此基础上论述其发展走向和取得新进展的可能性。
【机 构】
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中国科学院金属研究所中国科学院金属研究所;湖南远科航表面工程有限公司
【出 处】
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2005’全国真空冶金与表面工程学术会议
【发表日期】
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2005年7期
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