【摘 要】
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利用离子束辅助蒸发以及双离子束反应溅射沉积技术通过Hf制备了HfO2薄膜,对两种工艺下制备的HfO2薄膜的光学、表面形貌和激光损伤特性进行了研究,并与常用的电子束蒸发制备的
【机 构】
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上海光机所光学薄膜技术研究与发展中心,上海,201800
【出 处】
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第八届全国激光科学技术青年学术交流会
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利用离子束辅助蒸发以及双离子束反应溅射沉积技术通过Hf制备了HfO2薄膜,对两种工艺下制备的HfO2薄膜的光学、表面形貌和激光损伤特性进行了研究,并与常用的电子束蒸发制备的HfO2薄膜的相关特性进行了比较.实验结果表明,用金属Hf作为初始材料反应沉积的HfO2薄膜具有较高的激光损伤阈值,其中离子束辅助蒸发技术更加适用于高功率激光系统中尤其是神光系统中大尺寸元件的薄膜制备.
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