【摘 要】
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针对大面积喷淋式电极甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECvD)反应室，本文应用多物理场耦合分析软件CFD-ACE+，建立二维自适应流体模型。模拟研究了硅薄膜沉积过程中电极间流体场、电场空间分布时等离子体空间分布均匀性的影响，给出了薄膜沉积速率分布均匀性随反应气体流量、等离子体激发频率及辉光功率的变化规律。本文的模拟结果从理论上为大面积喷淋式平板电极VHF-PECVD反应室设计以及反应室工
【机 构】
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钧石能源有限公司,福建 泉州 362000 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津 300071
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针对大面积喷淋式电极甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECvD)反应室，本文应用多物理场耦合分析软件CFD-ACE+，建立二维自适应流体模型。模拟研究了硅薄膜沉积过程中电极间流体场、电场空间分布时等离子体空间分布均匀性的影响，给出了薄膜沉积速率分布均匀性随反应气体流量、等离子体激发频率及辉光功率的变化规律。本文的模拟结果从理论上为大面积喷淋式平板电极VHF-PECVD反应室设计以及反应室工艺条件的优化指导。
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