采用常压化学气相沉积法(APCVD)在浮法玻璃生产线上直接制备低辐射镀膜玻璃(在线LOW-E)具有产量大、成本低、膜层硬度大、耐久性强等优点.但由于镀膜是在移动的玻璃板上进行的,镀膜工艺必须与浮法玻璃生产线相匹配,使得各项工艺参数的操作和优化难度很大.除了优良的光电性能和大面积均匀性的要求之外,还要有较高的膜层生长速率和反应气体利用率,为此,需要对镀膜过程的热力学和动力学有深入的了解.本文对反应气体的气相化学和表面化学进行了综述,对膜层生长速率和反应气体利用率的影响因素进行了讨论,对水和氧的作用进行了分析,已有的研究结果表明,反应器的结构、与玻璃板的距离、气体的流速、MBTC含量、反应气体的温度等因素都对薄膜的生长速率和利用率有影响.H2O与MBTC的分解产物一起形成了活性更高的气相中间产物,或者在表面形成了羟基基团,促进了MBTC的表面反应.而O2的作用则是消除表面的碳,使得表面保持活性以利于薄膜的沉积.