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本文综合论述了成都工具研究所在QPQ技术研究方面取得的最新进展,其中包括在国内率先开发了深层QPQ技术,使化合物层深度增加到30 μm以上;通过大量试验优化了影响QPQ处理抗蚀性的工艺参数和渗层组织;对长期以来国际上关于疏松层是由氮原子分子化的的理论,首次利用扫描电镜得到了直接有力的证实.
QPQ技术研究的最新进展
【摘 要】
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本文综合论述了成都工具研究所在QPQ技术研究方面取得的最新进展,其中包括在国内率先开发了深层QPQ技术,使化合物层深度增加到30 μm以上;通过大量试验优化了影响QPQ处理抗蚀
【机 构】
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成都工具研究所,四川 成都 610051
【出 处】
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第十次全国热处理大会
【发表日期】
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2011年期
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