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本文介绍了基于速度调整的技术的均匀软X射线多层膜制备方法,并利用改进后的磁腔溅射镀膜装置,在φ150mm硅片上进行了13nm Mo/Si多均匀层膜.
大口径均匀软X射线多层膜制备方法研究
【摘 要】
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本文介绍了基于速度调整的技术的均匀软X射线多层膜制备方法,并利用改进后的磁腔溅射镀膜装置,在φ150mm硅片上进行了13nm Mo/Si多均匀层膜.
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所(长春)
【出 处】
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第六届全国激光科学技术青年学术交流会
【发表日期】
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2001年期
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