【摘 要】
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本文着眼于含钪扩散阴极的基体粉末的性能对阴极发射性能的影响.通过选择不同性能的阴极基体初始粉末,辅以不同的加工工艺,制成浸渍式含钪扩散阴极,并进行发射性能的测试.研究表明:基体粉末的性能能够对阴极最终的基体结构产生影响.选择经过分级处理的,平均粒径在2μm左右的钨粉,经过压制、烧结及浸渍后得到的含钪扩散阴极在1000℃b时,能得到114.8A/cm2的脉冲发射电流密度.
【机 构】
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中国电子科技集团公司第十二研究所 北京有色金属研究总院
【出 处】
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中国电子学会真空电子学分会第十九届学术年会
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本文着眼于含钪扩散阴极的基体粉末的性能对阴极发射性能的影响.通过选择不同性能的阴极基体初始粉末,辅以不同的加工工艺,制成浸渍式含钪扩散阴极,并进行发射性能的测试.研究表明:基体粉末的性能能够对阴极最终的基体结构产生影响.选择经过分级处理的,平均粒径在2μm左右的钨粉,经过压制、烧结及浸渍后得到的含钪扩散阴极在1000℃b时,能得到114.8A/cm2的脉冲发射电流密度.
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