【摘 要】
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含氢类富勒烯碳薄膜(Fullerene-like Hydrogenated Carbon,FL-C：H)具有硬度高、在大气环境条件下摩擦系数低以及良好的化学稳定性,是性能优异的抗摩耐磨材料.但FL-C：H薄膜因其制备窗口狭窄,制备参数要求苛刻,尤其是沉积方式集中于脉冲协助CVD方法,从而限制了FL-C：H薄膜的广泛应用.本文通过采用直流等离子体增强化学气相沉积薄膜技术,对比研究经不同方案(直流CV
【机 构】
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中科院兰州化学物理研究所 先进润滑与防护材料研发中心,甘肃兰州730000;中科院大学 北京 100049
【出 处】
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第十一届全国表面工程大会暨第八届全国青年表面工程学术会议
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含氢类富勒烯碳薄膜(Fullerene-like Hydrogenated Carbon,FL-C：H)具有硬度高、在大气环境条件下摩擦系数低以及良好的化学稳定性,是性能优异的抗摩耐磨材料.但FL-C：H薄膜因其制备窗口狭窄,制备参数要求苛刻,尤其是沉积方式集中于脉冲协助CVD方法,从而限制了FL-C：H薄膜的广泛应用.本文通过采用直流等离子体增强化学气相沉积薄膜技术,对比研究经不同方案(直流CVD和脉冲CVD)制备含氢碳薄膜中类富勒烯碳结构形成机理和结构差异,并考察直流CVD制备薄膜机械性能(硬度为25.8Gpa,弹性恢复为83.1％)和摩擦磨损性能(在氮气和空气中μ～0.010),同时探索其超低摩擦机理.
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