【摘 要】
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本文采用火焰水解法(FHD)在单晶Si片上快速淀积SiO/SiO-GeO厚膜,再经过高温玻璃化处理,获得了玻璃态的平面波导材料.下包层SiO膜的厚度约为40μm,波长1550nm处的折射率为1.44
【机 构】
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吉林大学电子科学与工程学院集成光电子学国家重点实验室吉林大学实验区(长春)
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本文采用火焰水解法(FHD)在单晶Si片上快速淀积SiO<,2>/SiO<,2>-GeO<,2>厚膜,再经过高温玻璃化处理,获得了玻璃态的平面波导材料.下包层SiO<,2>膜的厚度约为40μm,波长1550nm处的折射率为1.4462,芯层SiO<,2>-GeO<,2>膜的厚度为5μm,折射率为1.4631.分别采用XRD、XPS、SEM和椭偏仪等对波导材料表面特性和折射率等进行了测试分析.
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