2. 您的位置
3. 首页
4. 会议论文
5. Computer Modeling of Inductively Coupled Plasmas Plasma Chemistry and Feature Profile Simulations fo

Computer Modeling of Inductively Coupled Plasmas Plasma Chemistry and Feature Profile Simulations fo

来源 :2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：xyxyxyxyxy999

【摘 要】

：

In this talk,we will explain how to model etching and deposition processes for electronic device fabrication,as applied in Shallow Trench Isolation (STI) and th

【作 者】

：

S. Tinck A. Bogaerts 

【机 构】

：

UniversityofAntwerp,Universiteitsplein1,2610Wilrijk,Belgium

【出 处】

：

2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议

【发表日期】

：

2011年7期

【关键词】

：

Etching Deposition Modeling STI ICP 

下载到本地 , 更方便阅读

下载此文 赞助VIP

声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架

论文部分内容阅读

In this talk,we will explain how to model etching and deposition processes for electronic device fabrication,as applied in Shallow Trench Isolation (STI) and the simulation results will be compared to experimental data.

其他文献

无铅焊锡丝用助焊剂的研究及发展趋势

本文概述了助焊剂在电子工业中的作用及其特性，助焊剂在J-STD-004 标准中的分类和手工焊接对助焊剂的要求。本文对含卤松香型、无卤松香型和无卤无松香型三种助焊剂的创新点以

会议

soldering fluxpresent situationdevelopment trend

绿色制造在摩托罗拉----环境数据管理体系介绍

环境保护正日益成为国际贸易中的重要准则，绿色产品在国际竞争中占有越来越重要的地位，不符合环境保护标准的产品将最终被淘汰出国际市场。作为世界最大的电子制造商之一，摩托罗

会议

green manufacturingW18hazardous substancerecycling

节能减排技术应用

会议

Gas-Liquid Interfacial Plasmas and Nano-Bio Material Applications

Crossing over the framework of gas-phase plasmas,recent advances in the generation and control of liquids-related plasmas have afforded new channels for nano an

会议

Nanoscopic Plasma ProcessingGas-Liquid InterfaceNano-Bio Applications Abstract

Nanosecond optical measurements of a 13.56 MHz asymmetric surface barrier discharge in atmospheric p

Asymmetric surface dielectric barrier discharges (ASDBDs) have received significant interest recently due to their capability to promote aerodynamic flow contro

会议

Atmospheric pressure rf plasma actuator

Graphene fabrication and applications

An important goal for realization of flexible and stretchable electronics is to use print-processable materials that can be directly printed and realize high pe

会议

GrapheneField effect transistorFlexible electronicsStretchable electronics

环保设计理念在企业如何落地——金蝶PLM解决方案

会议

防静电最新技术在生产中的应用

本文阐述了防静电技术及产品在电子产品设计、生产过程中的应用，系统分析了静电对电子产品所造成的危害；重点说明了防静电的三个基本要素，介绍了消除静电的实际有效方法。

会议

智能防静电防静电门禁实时接地监控静电消除 ESD

Graphene devices from experimental viewpoints

The integration of Si is facing the fundamental limitation since the dimensions of electronic devices become just a few nanometers.The introduction of carbon-ba

会议

mechanical exfoliationmobilitycontact resistivity

Etch processes with pulsed plasmas for advanced CMOS technologies

Plasma etch processes used for integrated circuits fabrication become more and more challenging when thedevices dimensions are shrinking and the etch processes

会议

EtchingMicroelectronicsPulsed-plasma