【摘 要】
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Atomic layer etching (ALE) is gaining prospects in industry application,as the precision demands for smaller feature patterning is more urgent.The ALE process uses cyclic passivation and etching steps
【机 构】
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School of Physics and Optoelectronic Engineering, Dalian University of Technology,China
【出 处】
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13th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technolog
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Atomic layer etching (ALE) is gaining prospects in industry application,as the precision demands for smaller feature patterning is more urgent.The ALE process uses cyclic passivation and etching steps to achieve monolayer precision etching.Ion bombardment energy plays an important role,as the matching of energy and ALE window can influence the precision,selectivity damage and profile control,Tailored voltage waveform[1]is proposed as a flexible ion energy modulation method,it can give near mono-energy ions,or even the customized IEDs,according to the demands for etching control.
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