【摘 要】
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原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition,ALD)可制备无缺陷、超薄的保形性薄膜,常应用于各种材料的表面阻隔层的制备.除了有机光伏(OPV)、有机电致发光器件(EL)和有机发光二
【机 构】
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中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心,嘉兴314006;嘉兴科民电子设备技术有限公司,嘉兴314006中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心,嘉兴314006;山东大学物理学院,山东济南250100
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原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition,ALD)可制备无缺陷、超薄的保形性薄膜,常应用于各种材料的表面阻隔层的制备.除了有机光伏(OPV)、有机电致发光器件(EL)和有机发光二极管(OLED)等的水氧阻隔外,这一技术也被应用于金属材料表面的腐蚀性离子的阻隔,从而提升其抗腐蚀性能.
本文以Al2O3和TiO2为基础膜层材料,对比单一材料层、复合多层等不同工艺和组合条件下镀膜对阳极氧化铝(AAO)衬底的封孔效果和耐腐蚀性能影响.SEM图像证明ALD技术能够有效的进行阳极氧化铝材料的孔填充,并最终实现封孔.阐明了部分封闭孔结构形成的原因.镀膜厚度和工艺温度是镀膜耐腐蚀性能的重要影响因素.染色法和酸性点滴实验表明,薄膜的阻隔效果明显,随着镀膜厚度的增加,抗腐蚀性能提高.相同厚度的TiO2材料防腐性能优于Al2O3.Al2O3/TiO2的叠层镀膜凭借两种材料的互补作用,具备了更好的防腐蚀性能.前述结果表明,ALD技术能够为金属材料提供优异的阻隔镀膜,从而提高材料的抗腐蚀性能.它对多孔材料和异形结构部件的镀膜适用性,有利于该技术在多空过滤材料、精细喷嘴等领域的防腐蚀应用.
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