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本文利用原位红外光谱技术研究了退火过程中聚3-己基噻吩分子结构转变的过程，并结合X射线衍射和紫外可见吸收光谱对退火后样品的性质进行了测试，解释了退火过程对聚3-己基噻吩薄膜样品的影响。
利用原位红外光谱研究退火过程对聚-3 己基噻吩薄膜的影响
【摘 要】
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本文利用原位红外光谱技术研究了退火过程中聚3-己基噻吩分子结构转变的过程，并结合X射线衍射和紫外可见吸收光谱对退火后样品的性质进行了测试，解释了退火过程对聚3-己基
【机 构】
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山东大学，晶体材料国家重点实验室，济南260100
【出 处】
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第十六届全国光散射学术会议
【发表日期】
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2011年11期
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