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研究了反应烧结氮化硅-碳化硅耐火材料的抗铜熔体侵蚀的性能，并利用X射线衍射仪(XRD)和扫描电镜(SEM)对变质层进行了组成分析和形貌分析。结果表明：铜熔体经氧化冷却后以Cu20形式存在，试样中跟铜熔体反应的主要是Si3N4；氧化气氛下，材料容易被铜熔体腐蚀，还原气氛下，材料具有很好的抗铜熔体侵蚀能力。