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化学镀技术应用于计算机薄膜硬磁盘的生产，可以大大提高磁盘的存储容量。非磁性的化学镀Ni-P合金沉积在经高精度抛光的铝合金基体上，再经抛光、活化后镀上一层Co-P合金。可得到经济、耐用、高速、高性能的磁记录介质层。该文介绍了薄膜硬磁盘的生产过程。重点讨论了化学前处理、非磁性Ni-P合金底层和Co-P合金磁记录介质层的技术特点与沉积性能。