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本文研究的是利用优化工具遗传算法(GA)设计优化中心波长为1053nm,以45°入射的平板偏振膜。首先利用matlab编写了遗传算法优化程序,设计了周期多层偏振膜。在此基础上,进一步计算并优化膜系中的驻波场。最后优化得到的膜系与周期膜系相比,薄膜内的最大电场强度减小了20%,界面上的电场强度减小了12.5%。同时,P光的透射率达到99%以上,S光的反射率仍然能达到97%以上。