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纳米多层膜与体材料相比具有更好的抗辐照性能,本文证明了小周期的CrN/AlTiN多层膜的抗辐照性能比大周期多层膜有显著的提高。用能量为190 keV,剂量范围为1×1016ions/cm2到5×1016ions/cm2的Ar+辐照周期为3,5,7,9nm的CrN/AlTiN多层膜。周期为3nm的CrN/AlTiN在Ar+辐照的剂量为5×1016ions/cm2时出现非晶化,而其它周期的多层膜在Ar+辐照的剂量为3×1016ions/cm2时非晶化。这是第一次有关陶瓷材料多层膜抗辐照性能依赖于多层膜周期(＜10nm)的报告,其原因在于多层膜的界面起到了吸收辐照产生的缺陷的作用,使多层膜具有较强的自愈合功能。