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在PDP屏制作ITO膜的制作工艺方法主要有光刻蚀法、掩膜法、激光干式刻蚀法、丝网印刷法以及荫罩透过沉积法这几种方法，本文对光刻蚀法、掩膜法、激光干式刻蚀法、丝网印刷法以及荫罩透过沉积法等方法分别进行了介绍。
等离子体显示器中ITO电极的制作方法比较
【摘 要】
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在PDP屏制作ITO膜的制作工艺方法主要有光刻蚀法、掩膜法、激光干式刻蚀法、丝网印刷法以及荫罩透过沉积法这几种方法，本文对光刻蚀法、掩膜法、激光干式刻蚀法、丝网印刷法以
【机 构】
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西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室，陕西西安710049
【出 处】
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中国真空学会2008年学术年会
【发表日期】
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2008年10期
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