YBaCuO掺杂PbO和BaPbO的性质研究

来源 :2004年全国冶金物理化学学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:goddragon007
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
测量了不同含量PbO和BaPbO<,3>掺杂YBa<,2>Cu<,3>O<,7-δ>的熔化温度和超导临界转变温度(T<,c>).在YBa<,2>Cu<,3>O<,7-δ>中掺入PbO可以降低熔点,但X射线衍射分析表明高温下YBa<,2>Cu<,3>O<,7-δ>与PbO发生了反应生成BaPbO<,3>,降低了样品的超导电性.分别用BaPbO<,3>和PbO,BaPbO<,3>与PbO<,2>合成了单相的BaPbO<,3>.在YBa<,2>Cu<,3>O<,7-δ>中添加了不同含量的BaPbO<,3>(10﹪,20﹪,30﹪).X射线衍射分析表明YBa<,2>Cu<,3>O<,7-δ>与BaPbO<,3>没有发生反应.掺杂了BaPbO<,3>的YBa<,2>Cu<,3>O<,7-δ>比掺杂PbO具有较好的超导电性,但是不能降低YBa<,2>Cu<,3>O<,7-δ>的熔点.
其他文献
落差指数(推移水位)法形式上与落差指数法相近,而原理与抵偿河长(后移水位)法相似,具有形式简单,应用方便的特点,并能进行电算,减轻劳动强度,提高工作效率。主要应用于受洪水附加比降影响的测站的流量单值化处理,是实现站队结合,实行巡测、间测等测验整编水文业务的重大改革。加报站自1992年至今应用该方法进行推流的成果证明,具有精度高、效果好之优点。
本文介绍了酒钢选矿厂依靠技术创新,用BX型磁选机改造传统弱磁选机、特种水力旋流器与格子型球磨机组合应用于一段闭路磨矿、实施自动控制改造、使用矩环式磁选机回收尾矿中铁矿物以及预选抛尾的研究应用实践,通过改造主要技术经济指标实现了持续进步.
本文对宁国市凤形牌耐磨介质的应用和发展前景进行了介绍。安徽省宁国市耐磨材料总厂目前是我国最大的耐磨介质生产厂家,具有30多年的生产历史,生产的各种耐磨介质达76种规格.
本文介绍了世界铁矿石资源、产量及我国铁矿石资源,分析了世界铁矿石和国内铁矿石供求形势,并对马钢铁矿石供求及发展战略进行了分析,认为利用国内外两种铁矿石是马钢可持续发展必由之路,境外合营开矿是马钢获得稳定高品质铁矿石的可靠途径。
以四氯化钛和六水三氯化铝为原料,采用电化学方法制备了TiO/AlO复合粉体.以XRD对粉体进行表征发现,以电解TiCl和AlCl的混合溶液得到的粉体中,氧化铝主要分布在颗粒的表面.分别电解TiCl与AlCl的水溶液,待成胶后再混合而得到的粉体中,两种成分布比较均匀.对复合粉体进行高温处理,在500℃可以得到R-TiO/γ-AlO的复合粉体,而在950℃可以得到R-TiO/α-AlO的复合粉体,在1
以(NH)MoS,EtNBr,HSCHCHSH为原料,合成出[EtN][MoS(SCHCHS)]簇合物,用X射线衍射测定了晶胞结构.其晶胞参数为α=1.0304(8)nm,b=1.4158(8)nm,c=1.1417(1)nm,V=1.63801nm,Z=4,晶体属单斜晶系,晶体结构经块状矩阵最小二乘法修正后,最终偏离因子R=0.089.此外还进行了红外光谱,紫外可见光谱的测定.
本文以湿空气为氧化剂,主要研究稀土氯化物LaCl-CeCl-PrCl-NdCl的氧化反应特性,根据铈和非铈土元素氧化物的氧化产物不同实现CeO的分离.最佳氧化反应温度和时间分别为600℃的分离.最佳氧化反应温度和时间分别为600℃和60min,实验产物经x射线衍射分析,只有CeO的衍射峰,实现了单一稀土CeO的分离.
利用溶胶-凝胶法合成了SrCeYbO超细粉体,运用热分析、电镜表征了粉体的性质与形貌.X射线衍射表明1000℃即形成斜方钙钛矿结构,较高温固相反应合成温度降低了约400℃,粉体的平均粒径为65nm,具有良好的烧结性能,可以得到相对密度超过97﹪的多晶陶瓷.
在960℃下,改变电解质分子比、阳极电流密度、电解质中氧化铝浓度,对ZnFeO基惰性阳极材料在微型槽铝电解中的腐蚀行为进行了考察.实验证明ZnFeO基阳极材料在电解过程中的腐蚀,随电解质中氧化铝浓度的升高、阳极电流密度的提高、电解质分子比的降低而减少.当电解质中氧化铝达到饱和时,在足够高的电流密度下,腐蚀趋向于一个最低值.
在酸性硫酸盐体系中电沉积制备了Zn-Fe-SiO复合镀层,并研究了工艺因素对镀层SiO含量的影响.随着电流密度由4.8A/dm增加到6A/dm时,镀层中SiO的含量由0.21﹪上升到0.47﹪,但是当电流密度继续增加到7.2A/dm时,SiO含量反而下降到了0.18﹪.当镀液中SiO浓度由20g/L增加到60g/L时,镀层中SiO含量由0.40﹪上升到0.51﹪.当镀液pH值由2增加到4时,镀层中