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氮离子注入CVD金刚石薄膜场电子发射的初始过程
氮离子注入CVD金刚石薄膜场电子发射的初始过程
来源 :1998年中国材料研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:CYQWWL
【摘 要】
:
该文研究了氮注入CVD金刚石薄膜的场电子发射行为。实验表明,稳定发射的形成具有规律性的击穿、激活和稳定发射三阶段特征。文中还提出了一种修正的激活模型解释了该过程,讨论了发
【作 者】
:
邵乐喜
刘小平
陈光华
【机 构】
:
大学物理系
【出 处】
:
1998年中国材料研讨会
【发表日期】
:
1998年期
【关键词】
:
氮离子注入
金刚石薄膜
场电子发射
阶段特征
发射机理
规律性
氮注入
行为
实验
模型
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该文研究了氮注入CVD金刚石薄膜的场电子发射行为。实验表明,稳定发射的形成具有规律性的击穿、激活和稳定发射三阶段特征。文中还提出了一种修正的激活模型解释了该过程,讨论了发射机理。
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