氮离子注入CVD金刚石薄膜场电子发射的初始过程

来源 :1998年中国材料研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:CYQWWL
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该文研究了氮注入CVD金刚石薄膜的场电子发射行为。实验表明,稳定发射的形成具有规律性的击穿、激活和稳定发射三阶段特征。文中还提出了一种修正的激活模型解释了该过程,讨论了发射机理。
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