基于旋转光学元件设计的多通道椭偏仪已经取得了很大的进展，可进行在线和实时分析薄膜及其表明的光学性质，极大的提高了表明测量分析的能力。利用叠加的光源组合扩展光谱范围，并在光谱仪连接带有滤光片的线形阵列探测器窗口，使得光谱范围延伸至远紫外达到6.5eV。而且基于旋转器件的实时椭偏仪已经从传统选择起偏器的方式转变为一个或两个补偿器的旋转来得到光束偏振状态的改变，得到的参数不再仅仅是传统的椭偏角(ψ，△)从而样品厚度变化，同时还可以得到反射光束的斯托克斯分量得到光束的偏振度分析散射光的影响产生偏振度的变化，从而可以分析表面不均匀性及宏观微粗糙度的变化，使得这样的仪器在材料研究中发挥越来越重要的作用。本文通过介绍实时椭偏术平板显示中的应用，着重分析硅薄膜生长过程利用实时椭偏术得到的薄膜样品厚度的变化及其数据的分析。