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提出一种利用正交试验设计的思想对电容层析成像传感器结构参数进行优化方法.定义灵敏度场分布的均匀性,作为评价传感器性能的指标,结合成像相关系数指标,综合确定传感器优化结构.
一种新的电容层析成像传感器优化设计方法
【摘 要】
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提出一种利用正交试验设计的思想对电容层析成像传感器结构参数进行优化方法.定义灵敏度场分布的均匀性,作为评价传感器性能的指标,结合成像相关系数指标,综合确定传感器优化结构.
【机 构】
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北京工业大学无损检测与评估研究所,北京100124
【出 处】
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2013中国力学大会
【发表日期】
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2013年2期
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