Effects of in-situ remote plasma treatment on amorphous indium gallium zinc oxide thin film transist

来源 :2011年第三届微电子及等离子体技术国际会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xinkiss168
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Amorphous InGaZnO (a-IGZO) material is a post transition metal oxide which has recently garnered much attention as a active channel later in thin film transistor (TFTs) due to their excellent features,such as high field-effect mobilities,small subthreshold voltage swings,and good electrical stability.
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会议
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本研究基于碳纳米管材料的催化应用,发展了碳纳米管表面修饰制备以高分散为特征的碳纳米管负载纳米催化材料的方法,制备了RuO2、IrO2、CeO2纳米负载催化剂.采用RuO2/CNT催化剂用于一系列醇的催化氧化,展现出优越的催化氧化性能,提出了催化氧化性能与催化剂电容关系.采用RuO2/CNT催化剂,以氧气为氧化剂一步催化氧化环己烷制备己二酸具有高的活性和选择性.在125℃,1.5MPa,反应6小时的
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会议
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