针对人们对食品、药品保质期和安全性要求的不断提高,对高阻隔包装材料和高阻隔材料制备技术提出了新的挑战。人们不仅要求高阻隔包装材料环保、无污染、可回收,对包装材料的制备技术也要求环保、技术含量高、节约能源等。基于此我们采用无任何污染的高新等离子体辅助化学气相沉积技术,从新型等离子体源研制开始,到等离子体参数的诊断,再进行Al203、SiOx、TiOx和类金刚石等阻隔层沉积,最后应用于食品、药品的高阻隔包装。为了实现把实验室技术成果转化成大规模工业产品,我们设计加工幅宽为400 mm、1250 mm,速度为100 m/min的等离子体辅助化学气相沉积设备,实现沉积速率达到1100 nm/min,接近物理气相沉积速率,连续卷到卷的中试和生产设备,产品性能达到中试设备的水平。同时我们对沉积薄膜的结构和形貌进行分析,希望从中发现阻隔层和沉积薄膜的化学结果、表面形貌的内在联系。在进行薄膜添加剂迁移研究中我们还发现,等离子体辅助化学气相沉积的无机薄膜对小分子和有害添加剂有抗迁移的效果,可以实现迁移率小于3％欧盟标准。