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采用射频磁控溅射在(100)Nb：SrTiO3(NSTO)单晶衬底上制备了TbFeO3(TFO)外延薄膜，利用X 射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)等分析手段对薄膜结构和表面形貌进行了表征。
TbFeO3/Nb:SrTiO3异质结的制备及光电性能研究
【摘 要】
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采用射频磁控溅射在(100)Nb：SrTiO3(NSTO)单晶衬底上制备了TbFeO3(TFO)外延薄膜，利用X 射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)等分析手段对薄膜结构和表面形貌进行了表征。
【机 构】
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浙江理工大学,光电材料与器件中心,杭州310018
【出 处】
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第十三届全国固体薄膜学术会议
【发表日期】
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2012年期
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