【摘 要】
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本报告介绍了市场上离子源的各种主流分类应用。重点分析了离子源在真空辅助沉积镀膜领域的工艺应用,分别介绍了直流离子源、射频离子源、霍尔离子源三大类离子源的工作基本
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本报告介绍了市场上离子源的各种主流分类应用。重点分析了离子源在真空辅助沉积镀膜领域的工艺应用,分别介绍了直流离子源、射频离子源、霍尔离子源三大类离子源的工作基本原理和典型工作参数,以及各自在应用中的优点和不足。同时以博顿自主研发的中空阴极霍尔离子源和射频离子源产品为基础,针对目前市场普遍关注的几类精密光学镀膜工艺:IR-CUT红外截止滤光片量产化镀膜、金属反射膜低温冷镀、高抗激光损伤光学薄膜、激光晶体镀膜等,以实用案例做关键工艺参数介绍与应用效果分析。通过本报告,我们期望能让国内精密光学镀膜领域的同行了解到国产化高端离子源产品的性能参数与应用实例,共同提升国内精密光学镀膜工艺水平。
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