IPA在化学清洗中的应用

来源 :第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hawk_fox
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该文介绍一种加入少量IPA的新的清洗液,这种清洗液抑制颗粒污染硅片表面,且不改变表面的化学状态,是制备高性能的超薄栅氧化层所必需的清洗方法。
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