圆形基座水平式MOCVD反应器内部流动与传热特性的模拟与分析

来源 :2013中国力学大会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dubolzu
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以圆形基座水平式反应器为模型,对其内部流场,温度场以及热流分布进行模拟与分析,主要研究内容和结果如下:(1)较高Reynolds数(Re)下,即浮力对流强度相对较小时,整个流道内不会出现回流,但在基座的后半部分有明显的纵向卷筒涡胞出现;随着Re逐渐减小,流道反应段内上方开始出现回流,且回流的影响区域逐渐向上游扩大,纵向卷筒涡胞直径增大,数量减少;Re的变化对基座面热流分布影响较小.
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