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<正>一、引言四氟化硅是目前微电子工业中用量较大的等离子蚀刻气体之一,其主要用于氧化硅和硅化钽的等离子蚀刻、发光二极管P形掺杂、离子注入工艺、外延沉积扩散的硅源和光导纤维用高纯石英玻璃的原料,另外,四氟化硅也是生产多晶硅的重要原料。随着电子工业的飞速发展,四氟化硅的应用越来越广。国家标准委已经提出四氟化硅产品的国标制定计划。