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本文介绍一种用于产生高分辨全息光栅的新方法——液浸式干涉光刻技术的基本原理、实验系统、设计方法和可能的应用.
高分辨全息光栅制作技术
【摘 要】
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本文介绍一种用于产生高分辨全息光栅的新方法——液浸式干涉光刻技术的基本原理、实验系统、设计方法和可能的应用.
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所,微细加工光学技术国家重点实验室(成都)
【出 处】
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全国光电技术学术交流会
【发表日期】
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2000年11期
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