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SU-8胶紫外光背面光刻工艺模拟研究
【机 构】
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东南大学电子科学与工程学院,南京 210096
【出 处】
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2013‘全国半导体器件技术、产业发展研讨会暨第六届中国微纳电子技术交流与学术研讨会
【发表日期】
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2013年期
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