【摘 要】
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只有解决了薄膜厚度的高精度测量问题,才能解决薄膜制备过程中的工艺优化与制备技术问题。光干涉计量测试技术以波长为计量单位,是一种公认的高精度计量测试技术.本文提出一
【机 构】
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西安工业大学光电工程学院,陕西,西安,710032
【出 处】
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五省一市光学学会联合年会暨十三省市光学学会联合年会
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只有解决了薄膜厚度的高精度测量问题,才能解决薄膜制备过程中的工艺优化与制备技术问题。光干涉计量测试技术以波长为计量单位,是一种公认的高精度计量测试技术.本文提出一种基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量新方法,利用该方法对一个实际SiO2 薄膜样片进行了测试,通过对所获取的干涉图进行相位解包及数据分析处理,实现了对薄膜样片厚度的精确测试.结果表明:该方法具有非接触、测量精度高等优点,所测薄膜厚度的峰谷值为0.162μm,均方根值为0.043μm,为薄膜工艺的进一步研究提供检测方法上的技术保障.
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