【摘 要】
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本文用有限元法对不同钝化层的铝膜进行了应力模拟,同时采用光偏振相移干涉原理对硅基片上不同钝化层下的铝膜应力变化进行了研究.研究表明:不同的钝化层对铝膜的应力影响不
【机 构】
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北京工业大学,北京市朝阳区平乐园100号电控学院可靠性实验室,100022
【出 处】
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2005第十一届全国可靠性物理学术讨论会
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本文用有限元法对不同钝化层的铝膜进行了应力模拟,同时采用光偏振相移干涉原理对硅基片上不同钝化层下的铝膜应力变化进行了研究.研究表明:不同的钝化层对铝膜的应力影响不同.钝化层为SiO2的应力最小,且分布较为均匀,而钝化层为聚酰亚胺的铝膜应力最大,且分布最不均匀,应力差最大为3.63×103Pa.测量结果验证了模拟结果.
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