【摘 要】
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高性能、低成本的太阳能薄膜电池是有效利用太阳能、缓解能源危机的关键,在低成本的Si衬底上外延高性能的Ge 薄膜作为Ⅲ-Ⅴ 族太阳能电池的虚拟衬底是一个重要突破口。利用磁控溅射法制备了不同厚度的Si 基Ge 薄膜虚拟衬底,并对其进行高温退火处理,研究了Si 基Ge 薄膜的生长机理及其结构性能。
【机 构】
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北京工业大学应用数理学院 北京 100124
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高性能、低成本的太阳能薄膜电池是有效利用太阳能、缓解能源危机的关键,在低成本的Si衬底上外延高性能的Ge 薄膜作为Ⅲ-Ⅴ 族太阳能电池的虚拟衬底是一个重要突破口。利用磁控溅射法制备了不同厚度的Si 基Ge 薄膜虚拟衬底,并对其进行高温退火处理,研究了Si 基Ge 薄膜的生长机理及其结构性能。
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