C60纳米粒子和嵌段共聚物薄膜自组装研究

来源 :第一届北京化工大学大学生创新创业论坛 | 被引量 : 0次 | 上传用户：vertra

【摘要】

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利用原子转移自由基聚合法(ATRP)合成了窄分子量分布C60-PS聚合物.运用硅基底上旋涂成膜的方法,研究PS-b-PMMA双嵌段共聚物在不同后处理方法下的自组装现象.对于PS-b-PMMA基

【作者】

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任辉辉谭锦锦王鹏霍嘉彬张博李齐方

【机构】

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北京化工大学材料科学与工程学院北京100029

【出处】

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第一届北京化工大学大学生创新创业论坛

【发表日期】

：

2012年11期

【关键词】

：

纳米复合材料 C60纳米粒子嵌段共聚物自组装现象

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利用原子转移自由基聚合法(ATRP)合成了窄分子量分布C60-PS聚合物.运用硅基底上旋涂成膜的方法,研究PS-b-PMMA双嵌段共聚物在不同后处理方法下的自组装现象.对于PS-b-PMMA基体加入5％wt的C60-PS体系,经30～300V电场和不同的旋涂速度作为后处理方式,体系依次出现无规网状结构和较为规则的柱状结构,且随着膜厚度增加,得到有序微观结构的临界电场强度数值下降.

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