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本文主要介绍了国内外光刻胶技术现状及发展趋势,分析了国内外光刻胶市场状况及未来走向,并在此基础上阐述了我国光刻胶研发的重点工作,应解决的关键技术及未来的发展方向。
国内外光刻胶现状及发展趋势
【摘 要】
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本文主要介绍了国内外光刻胶技术现状及发展趋势,分析了国内外光刻胶市场状况及未来走向,并在此基础上阐述了我国光刻胶研发的重点工作,应解决的关键技术及未来的发展方向。
【机 构】
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北京化学试剂研究所北京科华微电子材料有限公司 北京 100022
【出 处】
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2006年特种化工材料技术研讨会
【发表日期】
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2006年期
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