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Effect of Growth Parameters on the Properties of GaAsBi Studied Using Stationary Growth
【机 构】
:
Optoelectronics Research Centre, Tampere University of Technology, Tampere, Finland
【出 处】
:
第七届铋化物半导体国际研讨会(7th International Workshop on Bismuth-contain
【发表日期】
:
2016年11期
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