光敏剂简介及新型光刻胶研究

来源 :2015全国非银盐成像材料及光刻胶发展论坛 | 被引量 : 0次 | 上传用户：woai12086

【摘要】

：

光敏剂:光刻胶中的感光物质紫外光刻胶:重氮盐化合物,双叠氮化合物,重氮荼醌磺酸酯深紫外光刻胶(化学增幅型):各种光产酸剂i-线光刻胶中光敏剂(Photoactive Compound,PAC)—重氮荼醌磺酸酯的光化学反应:1线胶对PAC的一些要求:(1)光漂白后在365nm残余吸收小,透过性高.这要求PAC的backbone在365nm吸收小,透过性高.(2)酯化度高,DNQ基团的数目多.(3)

【作者】

：

王力元

【机构】

：

北京师范大学化学学院

【出处】

：

2015全国非银盐成像材料及光刻胶发展论坛

【发表日期】

：

2015年12期

下载到本地 , 更方便阅读

下载此文赞助VIP

声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架

论文部分内容阅读

其他文献

锈蚀镀锌钢表面高附着环氧涂层的研究

以锈蚀镀锌钢为基体，在表面制备含有不同比例磺基水杨酸的环氧涂层试样.利用附着力测试仪，测试了涂层试样的附着力，通过电化学阻抗谱研究了涂层试样在3.5％的NaCl溶液中的耐蚀性能，并探讨了锈蚀镀锌钢表面磺基水杨酸对涂层试样耐蚀性的影响机理.从结果可以看出：添加3％磺基水杨酸的涂层附着力最大、涂层的耐蚀性最优良.

会议

锈蚀镀锌钢磺基水杨酸环氧涂层附着力耐蚀性

水性柔版油墨在非吸收材料上性能的研究

通过不同颜料、不同研磨树脂、不同颜基比对油墨分散性的影响来确定分散性最优的基墨,在基墨配方不变的情况下来研究不同的成墨树脂对油墨的色密度、光泽度、表面张力、流平性等性能的影响来更好地调节配方,最后通过设计配方实验的方法来优化水性柔印油墨的配方,最终制备出性能最好的水性柔印油墨.研究结果表明:颜料选用联苯胺黄、研磨树脂选用96、颜基比为2:1时所配置出的基墨分散性最好,成膜树脂选用S2916时可得到

会议

水性柔版油墨联苯胺黄研磨树脂颜基比分散性

一种反应型乳化剂的制备及在乳液聚合中的应用

本文合成一种双官能团的非离子反应型乳化剂并用于乳液聚合,得到具有表面交联结构的聚合物纳米微胶粒.研究了该反应型乳化剂的使用对乳液聚合的影响,并通过透射电子显微镜对乳液的粒径大小和分布进行表征.结果表明,加入该反应型乳化剂制备的乳液有利于得到粒径分布均匀的稳定乳液,平均粒径约为30nm.

会议

反应型乳化剂制备工艺粒径分布乳液聚合交联结构

液晶分子在掺杂体系中取向性能研究

本文用动态紫外光谱法对液晶分子在含有香豆素光敏基团的高分子掺杂体系中取向性能在进行了研究.其中带光敏基团的液晶高分子是由4-(6-丙烯酰氧基己氧基)苯甲酸-7-羟基香豆素酯均聚得到,实验结果表明:平行和垂直方向的吸光度都随着曝光能量增加逐渐减小,在300mJ/cm2出发生陡变,且在140℃热处理时垂直方向上的吸光度要比垂直方向上的大,在120℃和160℃热处理时,Abs都是平行方向上的比较大.随着

会议

液晶分子高分子掺杂体系含香豆素光敏基团各向异性热处理动态紫外光谱法

用于立体光刻的高效双光子引发剂

本文通过羟醛缩合反应合成了一系列新型的苄叉环己酮化合物.通过lH NMR、13C NMR及GC-MS对化合物结构进行了表征.利用Z-Scan对引发剂的非线性光学吸收性质进行研究.所合成的苄叉环己酮类化合物具有较强的电子给体和电子受体及较长的共轭结构,因此具有较大的双光子吸收截面.通过双光子立体光刻成型测试表征了引发剂的引发活性:新型的引发剂能有效引发PEGDA聚合,在扫描速度高达100mm/s时仍

会议

光引发剂双光子聚合光致脱羧引发活性立体光刻

支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐的合成及在光致抗蚀剂中的应用

以苯乙烯(St)、马来酸酐(MA)为共聚单体通过巯基链转移聚合法合成了具有不同支化单体含量的支化聚合物(BPSMA),通过傅立叶变换红外光谱(FT-IR)、核磁共振氢谱(1H NMR)、凝胶渗透色谱(GPC)、热重分析仪(TGA)和差示扫描量热(DSC)等表征了BPSMA的结构与性能.结果表明,随着VBT含量的增加,聚合物分子量降低,玻璃化转变温度(Tg)降低;再以季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)进

会议

支化聚合物聚苯乙烯马来酸酐巯基链转移聚合法结构表征光敏性光致抗蚀剂

彩色光阻与彩色滤光片

引言目前,平板显示器的应用越来越广泛,其中百分之九十以上是液晶显示器.电视,智能手机,各种不同类型的电脑,仪器仪裘,车载仪表,都离不开显示器.近几年来,平板显示技术迅速发展,平板显示器的性能不断提高.尤其是液晶显示器已经成为当今显示器市场的主流,中国的平板显示产业规模,已经跃居世界前列,如今,国内已拥有20多条TFT-LCD生产线,实际产能达到4610.91万平方米,约占2014年世界产能(1.5

会议

嵌段共聚物薄膜自组装纳米光刻技术

研究背景伴随着集成电路特征尺寸的减少,器件的运算速率将增加,功耗会降低半导体器件的特征尺寸将继续缩减到 32 nm、22 nm、甚至16 nm随着技术的不断进步,集成电路越来越追求小尺寸,高生产率和高集成度如何解决22nm和16nm纳米加工的技术节点电子束光刻技术纳米压印技术定向自组装技术嵌段共聚物定向自组装技术(BCP-DSA)两亲性嵌段共聚物(BcP)可以在选择性溶液中发生微相分离经过热退火或

会议

我国光刻胶技术现状与发展

主要内容微电子技术现状与发展光刻胶技术现状光刻胶的市场需求国家对光刻胶研发的持续支持我国光刻胶的发展展望微电子技术现状与发展微电子技术现状与发展微细加工技术微细加工技术实际上就是实现图形转移整个过程中的处理技术,也就是将掩膜母版上的几何图形先转移到基片表面的光刻胶胶膜上,然后再通过从曝光到蚀刻等一系列处理技术把光刻胶膜上的图像复制到衬底基片表面并形成永久性图形的工艺处理过程.

会议

光刻胶专用树脂的技术现状及发展趋势

主要内容紫外光刻胶树脂深紫外光刻胶树脂EUV光刻胶树脂纳米压印光刻胶树脂电子束、X射线光刻胶树脂厚膜光刻胶树脂主要光刻胶体系及应用一、紫外光刻胶树脂聚乙烯醇肉桂酸酯紫外负性光刻胶M1 主要的光刻胶体系Major photoresists

会议

光敏剂简介及新型光刻胶研究

与本文相关的学术论文