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Li INSERTION/EXTRACTION PERFORMANCE OF VACUUM DEPOSITED P-DOPED AND B-DOPED Si FILMS ON A Cu SUBSTRA
【机 构】
:
Department of Chemistry,Rikkyo University,Tokyo 171-8501,Japan
【出 处】
:
第十四届国际锂电池会议(The 14th International meeting on lithium Batter
【发表日期】
:
2008年6期
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