强脉冲离子源与新材料工艺

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强脉冲离子束(IPIB)技术在核聚变与高能密度物理研究推动下,二十年来取得了迅速发展。近几年脉冲功率密度10〈’6〉~10〈’9〉W/cm〈’2〉、脉冲宽度<1μs的离子束用于材料表面改性和薄膜研究表明,强脉冲能量效应赋予离子束新的物理性质,IPIB非常有希望成为高效率、低成本的新的离子束材料工艺。发展高可靠性、高重复频率、高平均功率的强脉冲离子源成为高功率芳子源与离子束技术发展的新热点。该文对强脉冲离子源与强脉冲离子束辐照效应及其在材料研究中应用前景进行分析和讨论。
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