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一种简单逻辑门的抗总剂量辐射设计
一种简单逻辑门的抗总剂量辐射设计
来源 :第十二届全国半导体集成电路硅材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:kathy052
【摘 要】
:
在MOS数字电路的抗总剂量辐射研究中,若不对MOS器件进行总剂量从工艺上进行加固,那么按通常方法设计的CMOS数字电路的噪声容限很容易变得很低,影响电路的正常工作.我们从电路
【作 者】
:
谭开洲
郭林
杨谟华
【机 构】
:
电子24所(重庆)
【出 处】
:
第十二届全国半导体集成电路硅材料学术会议
【发表日期】
:
2001年期
【关键词】
:
逻辑门
总剂量
数字电路
噪声容限
转移特性曲线
设计方法
辐射研究
方法设计
器件
平移
加固
工艺
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在MOS数字电路的抗总剂量辐射研究中,若不对MOS器件进行总剂量从工艺上进行加固,那么按通常方法设计的CMOS数字电路的噪声容限很容易变得很低,影响电路的正常工作.我们从电路上提出了一种可以有效抑制数字电路的转移特性曲线平移的设计方法,使得CMOS数字电路的噪声容限得以保持.
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