论文部分内容阅读
研究了钕铁硼磁体表面Ni-P镀层的直流电沉积过程并优化了电沉积工艺参数,同时采用SEM／EDX等多种技术对优化的镀层结构和性能进行了表征。结果表明:优化的Ni-P镀层表面平整光亮、与NdFeB基体结合牢固且具有非晶态结构,耐中性3．5％NaCl(mass fraction)盐雾实验超过了200 h。同时查明了镀层的较高P含量是导致镀层具有非晶态结构及其良好耐蚀性的主要原因。