【摘 要】
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本文介绍了南开大学近几年来开展新型的ZnO绒面透明导电薄膜研究的最新成果。采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)的方法和磁控溅射+湿法腐蚀的方法研究绒面ZnO透明导电膜。目前,用MOCVD的方法制备的ZnO∶B具有类金字塔的表面形貌,其电阻率达到1.2×10-3Ωcm,可见光透过率大于85％；用磁控溅射+湿法腐蚀的方法获得的ZnO∶Al具有弹坑状的表面形貌,其电阻率小于1.0×10-3Ωcm,可见
【机 构】
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南开大学光电子薄膜器件与技术研究所 南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室 南开大学光电信息技术科学教育部重点实验室,天津 300071
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本文介绍了南开大学近几年来开展新型的ZnO绒面透明导电薄膜研究的最新成果。采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)的方法和磁控溅射+湿法腐蚀的方法研究绒面ZnO透明导电膜。目前,用MOCVD的方法制备的ZnO∶B具有类金字塔的表面形貌,其电阻率达到1.2×10-3Ωcm,可见光透过率大于85％；用磁控溅射+湿法腐蚀的方法获得的ZnO∶Al具有弹坑状的表面形貌,其电阻率小于1.0×10-3Ωcm,可见光透过率大于85％。
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